研究用高純度シリコンウェハー 6-N-25

商品

特徴

●研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

仕様

サイズ(インチ)×伝導型:6×N型
OF長さ(mm)×ウェハー厚(um):47.5±2.5×625±25
製造方法:CZ法
面方位:100
OF位置:110
抵抗値:0.1~100Ω・cm
パーティクル:2-960-01~06/パーティクル不問、 2-960-51~60/0.3um、10個以下

備考

※特注対応品:
●方位(切断角度)、OF位置角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。
●多様な形状加工と表面処理が可能です。(例:ざくり加工品、穴あけ加工品、酸化膜付きウェハー)
●ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。

個人宅宛の配送について

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