研究用高純度シリコンウェハー 4×P型(低抵抗)(25枚)

商品

特徴

●研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

仕様

OF長さ(mm)×ウェハー厚(μm):32.5±2.5×525±25
サイズ(インチ)×伝導型:4×P型(低抵抗)
OF長さ(mm)×ウェハー厚(μm):32.5±2.5×525±25
入数:1箱(25枚)
製造方法:CZ法
面方位:100
OF位置:110
抵抗値:≦0.02Ω・cm
パーティクル:0.3μm、10個以下
特注対応品について
1方位(切断角度)、OF位置角度公差、厚み公差を、より小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。
2多様な形状加工と表面処理が可能です(例:ざくり加工品、穴あけ加工品、酸化膜付きウェハー)。
3ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。
48インチ、12インチに関しては随時お問い合わせください。

個人宅宛の配送について

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